2026年6月20日

 

荷蘭半導體設備製造商阿斯麥(ASML)星期五(6月19日)否認曾向中國出口其最先進的極紫外(EUV)光刻機，此前有報導稱美國商務部長霍華德·盧特尼克(Howard Lutnick)已就此事向該公司高層表達關切。

阿斯麥在一份書面聲明中表示：“阿斯麥從未向中國出口過任何EUV光刻機，也從未向中國出口過任何專門為EUV機器設計的零部件、模組或設備。”

彭博社早些時候報導稱，盧特尼克在與阿斯麥高層進行的一系列會談中表示，擔憂該公司的極紫外光刻機可能已違反美國主導的出口管制規定流入中國。阿斯麥是全球唯一一家能夠生產EUV光刻機的企業。

極紫外光刻機利用波長極短的光線在矽晶圓上蝕刻精細電路，是製造人工智慧和高性能計算所用尖端晶片不可或缺的設備。阿斯麥最先進的EUV系統體積與一輛校車相當，重量約達180噸，如此規模使得任何秘密轉運都極為困難。

阿斯麥表示，公司一貫遵守涉華出口管制規定，並隨時跟進出口管制新規以確保合規。

荷蘭外交部也發表聲明稱，荷蘭依據歐盟兩用品條例及相關國家措施，對半導體設備出口許可執行“嚴格”審查，並在必要時“採取相應行動”。

美國商務部在截稿前沒有回復置評請求。阿斯麥股價星期五早盤一度下跌約2.3%。

此次風波發生之際，美國國會正推動進一步收緊半導體出口管制。今年4月，兩黨議員提出《硬體技術管制多邊協調法案》(Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act，MATCH法案)，擬將出口限制從EUV光刻機擴展至深紫外(DUV)浸沒式光刻機，並禁止對中國境內現有設備提供維修服務。該法案已於4月在眾議院外交事務委員會獲得通過，但在參議院尚未取得進展。

目前，阿斯麥仍可在有限範圍內向中國客戶銷售深紫外光刻機(DUV)。中國在阿斯麥系統設備銷售額中所占份額已從2025年第四季度的約36%降至2026年第一季度的19%，降幅主要源於出口管制的持續收緊。

與此同時，中國正加快推進自主研發光刻機的步伐。路透社2025年12月報導，中國科學家已借助多名前阿斯麥工程師的技術積累，在深圳一處高度保密的設施內研製出一台EUV光刻機原型機，有官員將該專案的戰略雄心比作中國版"曼哈頓計畫"。

阿斯麥幾乎壟斷全球光刻機市場，其EUV光刻機更是100%佔據最高端市場份額。台積電(TSMC)、三星(Samsung)和英特爾(Intel)等全球頂級晶片製造商均依賴阿斯麥設備進行先進制程晶片的生產。